SN201712218 晶片清洗機（舊）
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品名 |
晶片清洗機（舊） |
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型號 |
EPM 311F |
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制造商 |
RENA |
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主要功能 |
直徑200mm的樣片清洗工藝和電鍍工藝 |
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技術指標 |
可在200mm直徑晶片上實現高效率的金屬Ni的電鍍工藝； 配備3個電鍍槽，單獨控制 |
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設備現狀 |
正常 |
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收費標准 |
400元/h |
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管理員 |
葉義軍 |
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聯系方式 |
0512-62872625 |
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設備照片 |
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