SN201712218 晶片清洗機(舊)

品名

品名

晶片清洗機(舊)

型號

EPM 311F

制造商

RENA

主要功能

直徑200mm的樣片清洗工藝和電鍍工藝

技術指標

可在200mm直徑晶片上實現高效率的金屬Ni的電鍍工藝

配備3個電鍍槽,單獨控制

設備現狀

正常

收費標准

400/h

管理員

葉義軍

聯系方式

0512-62872625

設備照片



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